Muitos produtos semicondutores no processo de produção precisam adicionar em pó de grafite para promover o desempenho do produto, no uso de produtos semicondutores, o pó de grafite precisa escolher o modelo de alta pureza, granularidade fina, resistente a alta temperatura, que não se de acordo com o requisito de graphite, de acordo com o mesmo tempo, o mesmo tempo é que você não tem um pouco de que você não tenha um efeito negativo, de acordo com o pó do pó, no mesmo tempo, que não tenha um efeito negativo, o mesmo tempo, que não deve ter um efeito negativo, o mesmo tempo, que não tem um pouco de que você não tem um pouco de baixa temperatura.
Pó de grafite
1, a produção de semicondutores precisa escolher pó de grafite de alta pureza.
Indústria de semicondutores para a alta demanda por materiais em pó de grafite, a pureza para, melhor, melhor, especialmente os componentes de grafite entram em contato direto com o material semicondutor, como mofo de sinterização, conteúdo de impureza na poluição semicondutores, mas também por meio de alta temperatura.
2, a produção de semicondutores precisa escolher pó de grafite de alto tamanho de partícula.
O material de grafite da indústria de semicondutores requer tamanho de partícula fino, grafite de partículas finas não é apenas fácil de obter precisão do processamento e força de alta temperatura, pequena perda, especialmente para o molde de sinterização, requer alta precisão de processamento.
3, a produção de semicondutores precisa escolher pó de grafite de alta temperatura.
Como os dispositivos de grafite usados na indústria de semicondutores (incluindo aquecedores e matrizes de sinterização) precisam suportar processos repetidos de aquecimento e resfriamento, a fim de melhorar a vida útil dos dispositivos de grafite, os materiais de grafite usados em alta temperatura com boa estabilidade dimensional e desempenho de impacto térmico.
Horário de postagem: novembro de 26-2021